对硅热法炼镁的还原剂—FeSi75硅铁氧化特性的研究
Research on the oxidation characteristics of FeSi75 in siliconthermic process
刘勇,游国强,黄彦彦
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作者单位：1.重庆大学材料科学与工程学院，重庆市：400045
2.国家镁合金材料工程技术研究中心，重庆市：400044
中文关键字：FeSi75硅铁；硅热法；氧化；炼镁
英文关键字：ferrosilicon75; silicothermic process; oxidation; magnesium reduction process
中文摘要：利用XRF、XRD及DSC—DT等实验手段同时结合热力学分析，针对硅热法炼镁所使用的还原剂—FeSi75硅铁合金的氧化特性进行了研究。研究结果表明：FeSi75硅铁的主要物相为Si、FeSi2、Fe0.42Si2.67；在298~1473K温度范围内和空气气氛中对FeSi75硅铁进行加热，主要是Si发生氧化生成SiO2，且随温度增高氧化速率增大；FeSi75硅铁不会发生氮化反应，没有氮化物的生成；硅铁中FeSi2相不会发生变化。
英文摘要：The Oxidation characteristics of ferrosilicon75 were researched, combining the experimental results of XRF, XRD and DSC-TG and the thermodynamic analysis. The results indicate that: (1)The main phase are Si、FeSi2、Fe0.42Si2.67 in ferrosilicon75. (2)Si will be oxidized to SiO2 when FeSi75 is heated with the temperature ranging from 298 K to 1473K in air, and the oxidation rate is supposed to increase with the rise of temperature. (3)There is no generation of nitride. (4) The phase of FeSi2 remains constant.